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機械剝離氧化鋁基底單層二硫化鉬
英文名:Mechanical exfoliation MoS2 on Al2O3
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| 貨號 | 規格 | 貨期 | 庫存 | 價格 | 會員價 | 訂購 |
| 1308128095-1盒 | 0 | ¥7700 |
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| 產品參數 | 形態:薄膜
參數 基底:氧化鋁 基底尺寸:10 mmx10 mm MOS2面積: >10 μm2 機械剝離制備的二硫化鉬,相比較鋰插層制備的單層類石墨烯材料,該類材料具有缺陷少,優異的光學性質,可以研究層數和熒光效應,此外,由于保持了原有晶格結構,所以該類材料是制備器件的理想材料。 |
| 性狀 | |
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