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機(jī)械剝離二氧化硅基底二硒化鉬
英文名：Mechanical exfoliation MoSe2 on SiO2
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| 貨號(hào) | 規(guī)格 | 貨期 | 庫(kù)存 | 價(jià)格 | 會(huì)員價(jià) | 訂購(gòu) |
| 1308128136-1盒 | 0 | ￥7700 |
| 別 名 | |
| Cas號(hào) | |
| M D L | |
| 分子式 | |
| 分子量 | |
| 產(chǎn)品參數(shù) | 形態(tài)：薄膜
參數(shù) 基底：二氧化硅 基底尺寸：10 mmx10 mm MoSe2 面積：>10 μm2 應(yīng)用 該類(lèi)材料具有缺陷少，優(yōu)異的光學(xué)性質(zhì)，可以研究層數(shù)和熒光效應(yīng)，此外，由于保持了原有晶格結(jié)構(gòu)，所以該類(lèi)材料是制備器件的理想材料。 |
| 性狀 | |
| 貯存 |
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