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CVD二硫化鎢薄膜：WS2
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| 貨號 | 規(guī)格 | 貨期 | 庫存 | 價格 | 促銷價 | 訂購 |
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| 性狀 | 制造方法：
化學(xué)氣相沉積法， Chemical Vapor Deposition （CVD） 產(chǎn)品簡介： WS2薄膜分為多種： 1） 單層離散分布的三角狀單晶晶粒，三角邊長一般是幾十至一百微米。 2） 由三角晶粒繼續(xù)長大連在一起的單層連續(xù)薄膜。 3） 多層WS2 連續(xù)薄膜。 4） 基底：WS2可選基底較多，其中藍(lán)寶石基底為直接沉積產(chǎn)品。其他基底例如：SiO2/Si, 硅片，PET，PI，ITO，F(xiàn)TO，玻璃，金屬基底等是通過在藍(lán)寶石上生長后轉(zhuǎn)移至客戶所需基底。 應(yīng)用領(lǐng)域： 光電器件，微電子器件，生物傳感，化學(xué)傳感等領(lǐng)域。 包裝及規(guī)格 10*10mm,15*15mm,20*20mm,2英寸圓片，4英寸圓片 或客戶指定的定制尺寸。 凈化抽真空包裝， 1片/盒，5片/盒。10片/盒。 典型客戶包括： MIT、加州理工、斯坦福大學(xué)； 牛津大學(xué)、曼徹斯特大學(xué)； 首爾大學(xué)、韓國科學(xué)技術(shù)院（KAIST）、成均館大學(xué)； 東京工業(yè)大學(xué)、村田制作所 清華大學(xué)、北京大學(xué)、中科院半導(dǎo)體所 等世界一流研究機(jī)構(gòu)。 |
| 貯存 |
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